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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 PLD System
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计,利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的最大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到最优的沉积条件。
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|
Pioneer240 |
Pioneer180 |
Pioneer120A |
|
最大wafer 直径 |
8” |
6” |
2” |
|
最大靶材数量 |
6 个1” 或3 个2” |
6 个1” 或3 个2” |
6 个1” 或3 个2” |
|
压力(Torr) * |
5*10-8 |
5*10-9 |
5*10-9 |
|
真空室直径 |
24” |
18” |
12” |
|
基片加热器 |
360°旋转 |
360°旋转 |
360°旋转 |
|
最高样品温度 |
850 ℃ |
850 ℃(升级1000 ℃) |
950 ℃ |
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Turbo 泵抽速* |
700 软件控制 |
400 软件控制 |
260 软件控制 |
|
计算机控制 |
包括 |
包括 |
包括 |
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基片旋转 |
包括 |
包括 |
选件 |
|
基片预真空室 |
包括 |
选件 |
选件 |
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扫描激光束系统 |
包括 |
选件 |
- |
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靶预真空室 |
包括 |
选件 |
- |
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IBAD 离子束辅助沉积 |
选件 |
选件 |
选件 |
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CCS 连续组成扩展 |
选件 |
选件 |
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高压RHEED |
选件 |
选件 |
选件 |
|
520 liters/sec 泵 |
N/A |
选件 |
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