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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 PLD System

Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计,利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的最大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到最优的沉积条件。

 

 

Pioneer240

Pioneer180

 Pioneer120A

最大wafer 直径

8”

6”

2”

最大靶材数量

6 个1” 或3 个2”

6 个1” 或3 个2”

6 个1” 或3 个2”

压力(Torr) *

5*10-8

5*10-9

5*10-9

真空室直径

24”

18”

12”

基片加热器

360°旋转

360°旋转

360°旋转

最高样品温度

850 ℃

850 ℃(升级1000 ℃

950 ℃

Turbo 泵抽速*
(liters/sec)

700

软件控制

400

软件控制

260

软件控制

计算机控制

包括

包括

包括

基片旋转

包括

包括

选件

基片预真空室

包括

选件

选件

扫描激光束系统

包括

选件

-

靶预真空室

包括

选件

-

IBAD 离子束辅助沉积

选件

选件

选件

CCS 连续组成扩展

选件

选件

-

高压RHEED

选件

选件

选件

520 liters/sec 泵

N/A

选件

-